Меньше десяти стран способны выпускать фотолитографы для производства микросхем
Подписывайтесь на телеграм-канал проекта Славатруд.рф https://t.me/slavatrudrf
*
Компания – резидент ОЭЗ «Технополис Москва» создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров, сообщил Сергей Собянин в своем телеграм-канале.
«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе – Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан при партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере», – написал мэр Москвы.
Отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использована не ртутная лампа, а твердотельный лазер – мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.
На отечественный фотолитограф есть заказчик. Технологические процессы адаптируют к особенностям производства конечного потребителя.
В настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.
